氧化物抛光
某些材料需要使用亚微米级的oxide polishing suspensions才能去除最后的变形。在一般的应用中，可使用alumina悬浮液，对于要求更高的应用，硅悬浮液是最好的选择。氧化硅悬浮液起到化学-机械抛光作用。在抛光过程中，样品表面会受到轻微侵蚀。亚微米级二氧化硅颗粒可将这一侵蚀层去除，使样品表面完全无变形。对于水敏感材料或具有水敏感夹杂物的材料，建议使用我们的无水热解二氧化硅悬浮液。
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Alumina Suspension 50 nm Neutral
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Fumed Silica Suspension 0.2 µm Alkaline
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Fumed Silica Suspension 0.2 µm WF
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Colloidal Silica Suspension 50 nm Alkaline
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Adapter Lid
我司所有的oxide polishing suspensions不结晶、不沉淀，并且含抗干燥剂，使清洁更轻松。根据要抛光的材料，您可以往悬浮液中添加各种化学物质，从而优化化学-机械抛光效果。
我们的oxide polishing suspensions可帮助您在非常短的时间内获得出色的抛光效果。
我们提供了多种二氧化硅和氧化铝oxide polishing suspensions，可用于不同材料的最终抛光，其中包括：
超细粒状硅胶悬浮液或稍粗的热解二氧化硅悬浮液，粒径为0.050μm至0.2μm（50至200 nm）。
一种独特的无水悬浮液，0.2μm热解二氧化硅悬浮液。
一种pH中性alumina polishing suspension。
有关于我们的氧化物抛光耗材以及如何购买的详情，请单击此处找到您的本地经销商，或通过info@akasel.com与我们联系。
常见问题解答：
哪种材料需要增加氧化物抛光这一步骤？
对于许多材料，用1μm金刚石抛光可获得令人满意的结果。但是，如果您需要绝对无划痕的抛光，尤其是对于柔软而易延展的材料，则使用氧化物抛光作为最后一步可以显着改善结果。
利用最后的氧化物抛光步骤可以缩短我的制备时间吗？
是的，由于结合了化学/机械材料去除，氧化物抛光通常很快完成。因此，用氧化物抛光步骤代替细粒度diamond polishing步骤可以减少制备时间。但是，氧化物抛光会轻微侵蚀样品的表面，如果不希望出现这种情况（例如图像分析时），应避免使用氧化物抛光。