氧化物抛光
某些材料需要使用亚微米级的oxide polishing suspensions才能去除最后的变形。在一般的应用中,可使用alumina悬浮液,对于要求更高的应用,硅悬浮液是最好的选择。氧化硅悬浮液起到化学-机械抛光作用。在抛光过程中,样品表面会受到轻微侵蚀。亚微米级二氧化硅颗粒可将这一侵蚀层去除,使样品表面完全无变形。对于水敏感材料或具有水敏感夹杂物的材料,建议使用我们的无水热解二氧化硅悬浮液。
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我司所有的oxide polishing suspensions不结晶、不沉淀,并且含抗干燥剂,使清洁更轻松。根据要抛光的材料,您可以往悬浮液中添加各种化学物质,从而优化化学-机械抛光效果。
我们的oxide polishing suspensions可帮助您在非常短的时间内获得出色的抛光效果。
我们提供了多种二氧化硅和氧化铝oxide polishing suspensions,可用于不同材料的最终抛光,其中包括:
超细粒状硅胶悬浮液或稍粗的热解二氧化硅悬浮液,粒径为0.050μm至0.2μm(50至200 nm)。
一种独特的无水悬浮液,0.2μm热解二氧化硅悬浮液。
一种pH中性alumina polishing suspension。
有关于我们的氧化物抛光耗材以及如何购买的详情,请单击此处找到您的本地经销商,或通过info@akasel.com与我们联系。
常见问题解答:
哪种材料需要增加氧化物抛光这一步骤?
对于许多材料,用1μm金刚石抛光可获得令人满意的结果。但是,如果您需要绝对无划痕的抛光,尤其是对于柔软而易延展的材料,则使用氧化物抛光作为最后一步可以显着改善结果。
利用最后的氧化物抛光步骤可以缩短我的制备时间吗?
是的,由于结合了化学/机械材料去除,氧化物抛光通常很快完成。因此,用氧化物抛光步骤代替细粒度diamond polishing步骤可以减少制备时间。但是,氧化物抛光会轻微侵蚀样品的表面,如果不希望出现这种情况(例如图像分析时),应避免使用氧化物抛光。