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Colloidal Silica Suspension 50 nm Alkaline
Kolloidale Silicasuspension für die Endpolitur von metallografischen Proben.
Die Suspension kann mit Ätzmitteln gemischt werden, um die Polierwirkung zu verstärken.
Silicakonzentration 585 g/l
Median (50%) 50 nm
pH 9,5 – 10,5
Nicht kristallisierend. Vor Gebrauch schütteln
Kategorien: Metallographisches Polieren, Oxidpolieren